题名:
变革与趋向   / 纪玉洁著 ,
ISBN:
978-7-5356-9265-8 价格： CNY128.00
语种:
chi
载体形态:
305页 彩图 23cm
出版发行:
出版地： 长沙 出版社： 湖南美术出版社 出版日期： 2021.07
内容提要:
本书由中央美术学院美术馆设计部主任, 总监纪玉洁博士专著, 图书着眼于梳理当代设计展的历史发展脉络, 以优选视野聚焦1970年代以来设计类展览的策展变革与趋向。该书文字12万, 以图文并茂的形式从社会语境、文化视角、主题阐释、理论来源、批评话语、视觉传播、空间叙事、设计系统建构等方面, 将大量不同类型的设计策展实践案例以非线性的逻辑方式来阐释和梳理, 形成了“思想实验”、“重构设计的智识系统”、“拓展边界”、“技术的话语维度”、“思于未然”五个具有设计视图感的策展研究。 
主题词:
设计   工艺美术史 中国
中图分类法:
J509.2 版次： 5
其它题名:
20世纪70年代以来的设计展策展研究
主要责任者:
纪玉洁 著
责任者附注:
纪玉洁, 艺术学博士、中央美术学院副研究员中央美术学院美术馆设计部主任 / 总监, 中央美术学院美术博物馆虚拟策展实验室设计顾问。